電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下，通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng)，利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。...

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電去離子系統(tǒng)的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97～99%離子的前提下，EDI可直接將反滲透產(chǎn)水提純到純水、高純水、超純水的標(biāo)準(zhǔn)，而無(wú)需使用離子交換混床，其產(chǎn)水的電阻率最高可達(dá)18MΩ·cm。...

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通過(guò)獨(dú)特的設(shè)計(jì)，使進(jìn)水通過(guò)填充有可再生樹(shù)脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹(shù)脂吸附，從而得到純化水。而樹(shù)脂在直流電場(chǎng)裂解水的作用下得到無(wú)污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場(chǎng)的作用下，定向移動(dòng)，通過(guò)離子選擇膜進(jìn)入濃水室被濃水帶走。...

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拋光混床的樹(shù)脂是不能再生重復(fù)使用的。拋光混床又稱一次性混床一般情況用在工藝末端，用來(lái)更進(jìn)一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。為獲得電子、醫(yī)藥或其他行業(yè)用電導(dǎo)率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ·cm）的理論純水，在普通混床或EDI凈水設(shè)備后，通常還裝設(shè)拋光混床進(jìn)行最終的精處理。...

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我司生產(chǎn)的超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。...

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電子超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
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半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)18MΩ.cm以上...

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EDI是一種將離子交換技術(shù)(電滲析)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動(dòng)，并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜以加速離子移動(dòng)去除，從而達(dá)到水純化的目的。...

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